產品詳情
surpass大口徑等離子刻蝕設備
本設備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
尺寸：Φ1500mm，Φ2000mm
本設備可根據(jù)客戶技術需求，定制研發(fā)生產，具體詳情請電聯(lián)我司。
成都超邁光電科技有限公司，為國家高新技術企業(yè)、國家標準擬定單位、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè)、新經(jīng)濟雙百企業(yè)，已通過GB/T與GJB雙體系認證。
刻蝕材料：石英、硅、金屬、光刻膠等材料
刻蝕均勻性：2%~8%（光刻膠）
刻蝕速率：50nm~500nm/min真空度（極限）：5x10-4Pa
氣路MFC：標配6種氣體，耐腐蝕±0.5%FSI
刻蝕表面粗糙增加值：優(yōu)于0.2nm
超邁公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術提升，具有全系列涂層服務裝備和檢測手段，已申請zhuanli60余項，授權軟件著作權50余項，擬定國家標準2項，行業(yè)標準1項，為中國物理學會固體缺陷專家委員單位，全國電熱裝備標準化委員會單位，已形成工業(yè)級、科研級和特殊級三大產品系列，公司投入數(shù)億元在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產業(yè)園，共分兩期建設，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設施建設，具備強大的研發(fā)和制造能力。
