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CEA與Crolles2聯(lián)合開發(fā)45nm和32nm CMOS納電子技術(shù)
CEA與Crolles2聯(lián)合開發(fā)45nm和32nm CMOS納電子技術(shù)
 更新時(shí)間:2008-8-18 9:35:00  點(diǎn)擊數(shù):7
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 CEA(法國原子能委員會(huì))與Crolles2聯(lián)盟簽訂了一個(gè)為期四年的研發(fā)合同(2004—2007),Crolles2聯(lián)盟的三個(gè)合作伙伴分別是意法半導(dǎo)體、飛利浦和原為摩托羅拉半導(dǎo)體產(chǎn)品部的摩托羅子公司Freescale半導(dǎo)體有限公司。這項(xiàng)協(xié)議預(yù)計(jì)四方將在300mm圓晶片上合作開發(fā)45nm、32nm以及32nm以下CMOS節(jié)點(diǎn)的納電子技術(shù)。
--這項(xiàng)研究項(xiàng)目由CEA-Leti(CEA電子信息技術(shù)實(shí)驗(yàn)室)在一個(gè)新的300mm制造廠完成,這個(gè)被稱為Nanotec 300(納米技術(shù)300)的新廠區(qū)位于格靳諾布爾市,2004年4月22日舉行了落成典禮。新廠區(qū)包括1000平方米的潔凈室和在300mm圓晶片上制造、晶質(zhì)鑒定和測量電子器件如晶體管的各種設(shè)備。研究活動(dòng)涵蓋四個(gè)領(lǐng)域:高級(jí)圖形形成、前端材料和工序、高級(jí)器件、后端材料和工序。這項(xiàng)研究活動(dòng)將由CEA與Crolles2聯(lián)盟的三個(gè)作伙伴以及其現(xiàn)有的研究伙伴聯(lián)合進(jìn)行,包括比利時(shí)Leuven IMEC和美國德州奧斯丁Dan Noble中心。
--這項(xiàng)協(xié)議是CEA-Leti與意法半導(dǎo)體(ST)在格靳諾布爾地區(qū)達(dá)成的就200毫米圓晶片CMOS研究計(jì)劃的繼續(xù)。作為這項(xiàng)長期合作的一部分,兩個(gè)實(shí)驗(yàn)室的研究員及兩個(gè)制造廠的圓晶片可以永久互換,標(biāo)準(zhǔn)的CMOS工序在Crolles完成,而較高級(jí)的技術(shù)在附近的CEA-Leti制造廠進(jìn)行,從而優(yōu)化了整體研究的投資。新的協(xié)議將采用與此相似的做法。
Nanotec 300項(xiàng)目代表了微電子技術(shù)領(lǐng)域的一項(xiàng)重大的研究活動(dòng),得到了總計(jì)3億歐元的支持資金,融資單位包括Crolles2聯(lián)盟、法國政府和當(dāng)?shù)卣『影柋八股絽^(qū)議會(huì)、Isere省眾議院、格靳諾布爾市區(qū)自治會(huì)和市政廳)。

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