首頁 >報價 >電工電氣 > 電源>MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計

MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計

數(shù)量(個) 價格
1 9999.99元/個
  • 供貨總量： 電議
  • 最小起訂： 1個
  • 發(fā)貨地址： 廣東深圳市
  • 付款方式： 面議
  • 發(fā)布日期：2025-12-16
  • 訪問量：229
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第5年

深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司

實名認(rèn)證 企業(yè)認(rèn)證
  • 企業(yè)地址：深圳市龍崗區(qū)坪地街道坪西社區(qū)越發(fā)工業(yè)區(qū)
詳細(xì)參數(shù)
品牌 CTI 規(guī)格型號 PCS
編號 550 計量單位 1個
付款方式 面議 參考價格 9999.99
價格單位 人民幣 供貨量 不限
說明書，報價手冊及驅(qū)動 暫無相關(guān)下載 其他資料下載 暫無相關(guān)下載
產(chǎn)地 美國 發(fā)貨地 廣東深圳市

產(chǎn)品詳情

MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計AMAT氣體流量計0190-51152

Granville-Phillips 隔膜規(guī)390628-0-YE-T   390B6636

MKS 390628–0-YE MKS GRANVILLE-PHILLIPS gauge P/N：390628–0-YE-T  390628-0-YE-T 390B6636


GRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module:

PN:390628-0-YE-T,

PN:390506-3-YE-T,

PN:390410-0-YE-P,

PN:390410-0-YE-T ,

PN:390417-0-YE-T,

PN:390611-2-YK-T。

The Replacement Gauge Assembly forGRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module

PN:390100-YH,

PN:390100-YG,

PN:390100-YE 。

390611–0-YG-T cfi35 數(shù)量五個


UFC-8165 流量計flowmeter

mks385620-4-GE-T-00049 真空計  356005-YE-T 傳感器

全新lam bl VODM 料號：796-055344-005MKS傳感器51B13TCA2BA990/51C13TCA2BA990

等離子注入機刻蝕VAT閥門08138-FA24-0001

TC6MVCR是AMAT 3310-01071、Teledyne Hastings DV-6-VCR和Brooks 8112105熱電偶儀表

AMAT真空計1350-00681美國MKS流量計的詳細(xì)信息MKS真空計355400-0-TD-T氣體流量控制器


HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計

MKS MODE：1179A00452CR1BV真空計  流量計美國 日本  聯(lián)系13510223365

● 壓力測量范圍在10ˉ5Torr 到大氣壓，大于普通的皮拉尼真空計2個測量等級
● 3個用于工藝控制的中繼點(選擇性)
● 超的設(shè)計
● 為工藝控制提供高的測量精度
● 模擬的輸出和數(shù)字通訊(RS232或RS485)提供了簡便的操作
● 可以抵御大氣沖擊和振動
● 可以方便地安裝于任何方向，沒有任何測量精度的損失
● 可以替代任何供應(yīng)商的真空計和設(shè)施的升級
● 符合歐洲CE，EMC標(biāo)志


MKS925真空計可以使用于半導(dǎo)體工業(yè)的分析和鍍膜工藝上的測量。
● 一般的真空壓力測量
● 前極管路和低真空的測量
● 氣體的充填測量和控制
● 質(zhì)譜儀器的控制
● 真空計的啟動
● 工藝系統(tǒng)的控制
● 控制系統(tǒng)的壓力


深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司

sell  Exchang  Repair

Debion注入機 FILAMENT P.S電源

Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration inbation:

1.Configured for 8'' wafer

2.automatic wafer handling

3.Cl2 based etching process

4.3 process modules

5.Inspected by SPTS OEM engineer

6.Missing 1x Mag7 robot

7.Missing 1x VCE B controller

8.Missing 1x 24V DC Power supply


sell  Exchang  Repair Debion注入機 FILAMENT P.S電源

ETCH主要產(chǎn)品涉及金屬加工件chamber Linear/heater/slit door）；密封件；以及ESC（包括ESC 翻 新

延長了使用壽命




加熱元件的發(fā)熱越有效，需要對它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。


深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計流量計 等進(jìn)口控制器

供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600

CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢。

OB8F:

OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

. Certificate of manufactures conbity attached.

. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

. CTI Part # 8116143G001   Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

8200: 8032559G001

美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001

MKS354005-YD-T

Granville-PHillips真空計    275529-EU

1.型號：275529-EU

2 MKS390411-0-YE-T真空計GRANVILLE-PHILLIPS

3.非實價，議價！英?？嫡婵沼婱KS354005-YD-T離子對撞壓力計MKS

INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)

INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設(shè)計相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實惠且可重復(fù)的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎(chǔ)，并提供高價值/低擁有成本的選擇。

INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。


MKS系列 部件號 顯示 單位 輸出 法蘭型 燈絲 INFICON部件號
355 微離子®
355400-0-碼 不 托 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355400-0-葉-T 不 托 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
355 微離子® 355400-0-YK-T 不 托 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355400-0-YF-T 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
355 微離子® 355400-0-YG-T 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355400-0-碼 不 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355400-0-葉-T 不 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子® 355400-0-YK-T 不 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355400-0-YF-T 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355400-0-YG-T 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355400-0-碼 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355400-0-葉-T 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
355 微離子® 355400-0-YK-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355400-0-YF-T 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
355 微離子® 355400-0-YG-T 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355600-0-碼 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355600-0-碼 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355600-0-碼 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
355 微離子®
355410-0-碼 不 托 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
355 微離子®
355410-0-葉-T 不 托 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
355 微離子® 355410-0-YK-T 不 托 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
355 微離子® 355410-0-YF-T 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
355 微離子® 355410-0-YG-T 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054








354 微離子®
354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 托 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 托 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
354 微離子®
354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
354 微離子®
354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
354 微離子® 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
354 微離子® 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
354 微離子® 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） 不 帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054









































進(jìn)口CWFG00403 光刻膠過濾器 WGGB06S02濾芯

ASML是 Advanced Semiconductor Material  Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。

  ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。

  ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型，全部為沉浸式。

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