產(chǎn)品詳情
微納米氧化鋁漿料分散機
氧化鋁漿料分散機,氧化鋁水性漿料高速分散機,氧化鋁水性漿料納米分散機,氧化鋁水性漿料超細分散機,氧化鋁漿料分散機
一、氧化鋁的廣泛應用(1-7-7-1-7-0-1-4-6-6-9)
氧化鋁具有硬度高、化學穩(wěn)定性好、導熱絕緣性能好等優(yōu)點，已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、導熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導熱鋁基板、導熱硅膠墊、導熱灌封膠、導熱硅脂、導熱膠泥、導熱雙面膠有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。
二、氧化鋁的分散問題
近年來，已超細氧化***體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化***體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體特有的性能，因此超細氧化***體的分散，是超細氧化***體走向?qū)嵱没年P鍵。
在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。
當物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦GMD2000系列研磨分散機，獨特的結構，膠體磨+分散機一體化設備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。
三、微納米氧化鋁漿料分散設備
結合多家化工企業(yè)案例，我司推薦GMD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。
GMD2000是由膠體磨和分散機組合而成的設備，轉(zhuǎn)速高達18000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設計的優(yōu)勢在于，粒子細化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時分散十分重要，而砂磨機難以分散。
GMD2000系列研磨分散設備是SGN（蘇州）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶選擇）。
四、實驗室氧化鋁漿料分散設備(1-7-7-1-7-0-1-4-6-6-9)
上面介紹的是中試和工業(yè)級使用的分散機，若需要在實驗室進行小試，可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散機，該款產(chǎn)品可以達到28000rpm的超高轉(zhuǎn)速，團聚顆粒經(jīng)過工作頭下方吸料進入剪切區(qū)域，被瞬間撕裂，同時在顆粒表面形成靜電電荷，達到混為排斥進而不再團聚的效果。
研磨分散機選型表
|
型號 |
流量 L/H |
轉(zhuǎn)速 rpm |
線速度 m/s |
功率 kw |
入/出口連接 DN |
|
GMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
GMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
GMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
微納米氧化鋁漿料分散機
