產(chǎn)品詳情
法國ALCATEL阿爾卡特真空泵：半導(dǎo)體電子行業(yè)的高端真空解決方案
專業(yè)真空技術(shù)，賦能半導(dǎo)體制造
法國ALCATEL（阿爾卡特）真空泵是全球半導(dǎo)體和電子行業(yè)的核心真空設(shè)備供應(yīng)商之一。憑借超高真空（UHV）、潔凈無油、耐腐蝕等核心技術(shù)，ALCATEL真空泵廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板、先進封裝、科研設(shè)備等領(lǐng)域，助力5nm/3nm先進制程、第三代半導(dǎo)體及Micro LED等前沿技術(shù)發(fā)展。
ALCATEL真空泵在半導(dǎo)體電子行業(yè)的應(yīng)用
1. 芯片制造（前道工藝）
? 光刻（Lithography）
- EUV/DUV光刻機：提供超高真空（≤10?? mbar），減少光散射，確保曝光精度。
- 推薦泵型：渦輪分子泵（HiPace系列）+干式螺桿泵組合。
? 刻蝕（Etching）
- 等離子刻蝕（Dry Etching）：穩(wěn)定維持低氣壓（10?2~10?3 mbar），兼容Cl?、CF?等腐蝕性氣體。
- 推薦泵型：耐腐蝕干式泵（A4系列）。
? 薄膜沉積（CVD/PVD/ALD）
- CVD（化學(xué)氣相沉積）：SiO?、Si?N?等薄膜生長，需中高真空環(huán)境。
-PVD（物理氣相沉積）：金屬濺射鍍膜（Al、Cu），依賴超高真空。
- ALD（原子層沉積）：納米級薄膜沉積，要求快速抽氣與精準壓力控制。
- 推薦泵型**：渦輪分子泵+羅茨泵（增壓）+干式前級泵。
? 離子注入（Ion Implantation）
- 高真空環(huán)境（10?? mbar）確保離子束精準摻雜，提升芯片性能。
- 推薦泵型：渦輪分子泵+低溫泵（極高純度）。
2. 先進封裝與測試（后道工藝）
? 真空封裝
- MEMS傳感器、功率器件（IGBT）：惰性氣體或真空封裝，防止氧化。
- 推薦泵型：無油干式泵（避免碳氫污染）。
? 氦質(zhì)譜檢漏（Leak Testing）
- 檢測芯片封裝氣密性，確保產(chǎn)品可靠性。
- 推薦泵型：渦輪分子泵+隔膜泵（高靈敏度）。
3. 平板顯示（LCD/OLED）制造
? 顯示面板鍍膜
- ITO導(dǎo)電層、OLED有機材料蒸鍍：要求高均勻性、無顆粒污染。
- 推薦泵型：大抽速渦輪分子泵（如HiPace 3000）。
? OLED真空封裝
- 超高真空（10?? mbar）隔絕水氧，延長屏幕壽命。
- 推薦泵型：低溫泵（極低水汽殘留）。
ALCATEL真空泵的核心技術(shù)優(yōu)勢
? 超高真空（UHV）性能：支持10?? mbar極高真空，滿足EUV光刻等尖端需求。
? 100%無油設(shè)計：干式泵、磁懸浮渦輪泵杜絕碳氫污染，符合SEMI潔凈標準。
? 耐腐蝕處理：特殊涂層（如Al?O?）應(yīng)對WF?、HCl等蝕刻氣體。
? 智能控制：集成IoT傳感器，實時監(jiān)控壓力、溫度，提升工藝穩(wěn)定性。
為什么全球半導(dǎo)體巨頭選擇ALCATEL真空泵？
?? ASML（光刻機）、應(yīng)用材料（AMAT）、Lam Research（刻蝕設(shè)備）等廠商長期合作。
?? 適配3nm/2nm制程、SiC/GaN第三代半導(dǎo)體等未來技術(shù)需求。
?? 普發(fā)真空（Pfeiffer Vacuum）全球服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，提供快速技術(shù)支持與定制化方案。
ALCATEL真空泵——為半導(dǎo)體創(chuàng)新提供純凈、穩(wěn)定、高效的真空環(huán)境！
